曝光场相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

曝光场相关论文

改进定标曝光场的对准精度

随着设计尺寸的缩小，改进曝光场内套准精度变得十分重要。通过跟踪研究每个工艺步骤，发现硅局部氧化工艺对曝光场放大有相当大的影响......

期刊

套准对准精度定标曝光场半导体

硅片翘曲对光刻条宽均匀性的分析

通过对硅片翘曲情况及AZ603-14cp正性光刻胶的测试,在步进光刻机的聚焦曝光原理基础上分析了硅片翘曲对条宽均匀性的影响.从而得到......

期刊

步进光刻机条宽均匀性景深硅片翘曲曝光场正性光刻胶

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