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未掺杂SI-InP中缺陷的正电子寿命研究
在10~300 K 的温度范围内,测量了用液封直拉法(LEC)生长的n-InP经高温退火后形成的未掺杂SI-InP 晶体的正电子寿命谱. 用PATFIT和ME......
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未掺杂SI-InP
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