本征硅外延相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

本征硅外延相关论文

UHV／CVD生长本征硅外延层的研究

在微波双极型晶体管中，收集区的厚度是影响其截止频率的一个重要因素。普通的常压外延难以生长出杂质浓度变化陡峭的薄外延层。文章......

期刊

超高真空化学气相淀积锗硅器件异质结双极型晶体管本征硅外延 UHV/CVD SiGe device Heterojunction bipolar tra

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