磨角染色法相关论文
分析了半导体器件静态漏电对高可靠设备造成的危害。对比了失效器件在不同偏压条件下的测试结果,结合器件芯片版图的设计特点以及......
众所周知,在制作器件的工艺过程中,结深的控制对器件成品率的影响较大,如能清晰地显示各种扩散或外延结,甚至是杂质浓度差很大的同......
用EBIC法分析了LED列阵显示器失效的工艺原因,非破坏地测量了最佳样管的p-n结结深,其数值与磨角染色法及最佳结深理论计算值一致。......
一、前言在半导体基片中扩散杂质形成能导电的载流子,从而形成P-n结的技术已经由来已久了,近年来,随着器件的复杂化和IC设计规则......
通过传统的磨角染色法,利用不同染色液工作机理的不同,使PN结两侧的不同掺杂区域发生差异化上色,并运用光学干涉法产生干涉条纹,从......
