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等离子体加强化学沉积(PECVD)相关论文
模拟分析SiH4和N2O产生等离子体加强化学沉积制备SiO2薄膜
通过等离子体粒子模拟实验(PIC),成功模拟了硅烷(SiH4)和笑气(N2O)的等离子体加强化学沉积(PECVD)制备SiO2薄膜的过程.模拟实验过程分析了......
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等离子体加强化学沉积(PECVD)
SIO2薄膜
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