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红外镀膜材料相关论文

磁控反应浅射制备GexC1—x薄膜的特殊性分析

利用射频磁控反应溅射法，以Ar,CH4为原料气体，在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1-x薄膜，用于涉法测量了薄膜的厚度，对GexC1-x薄膜的......

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磁控反应溅射红外镀膜材料 GEXC1-X薄膜制备 deposition rateRF magnetron reactive sputteringtarget

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