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纳米凹坑绒面相关论文

多晶硅的反应离子刻蚀(RIE)制绒绒面研究

实验基于反应离子刻蚀(Reaction Ion Eatching RIE)技术进行的多晶硅片纳米绒面制备,这种结构的绒面可明显降低晶体硅电池反射率,......

期刊

反应离子刻蚀(RIE) 纳米凹坑绒面反射率 SiNx膜沉积

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