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薄膜成形相关论文
射频负偏压与放电电流对c—BN薄膜形成的影响
用ARE(Active Reaction Evaporation)装置,在N2/Ar混合等离子体弧光放电气氛下,通过电子束蒸镀纯硼,同时伴以一定能量的正离子轰击生长的膜表面的方法,在单晶硅(100)基片上成功......
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