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选择性二氧化硅相关论文
0.13um工艺中钴硅化物的缺陷分析与改善
在半导体器件的制造过程中,尤其是在0.18um及其以下的制造工艺中,自对准金属硅化物(Salicide,Self-Aligned Sili-cide)工艺是一项极......
期刊
0.13um
半导体
自对准金属硅化物
金属钴硅化物
选择性二氧化硅
整合
0.13um
Semiconductor
Salicide
Co-Salici
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