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金属-氧化物-硅结构相关论文
薄栅氮化物的击穿特性
研究了含N MOS薄栅介质膜的击穿电场和电荷击穿特性.结果表明:MOS栅介质中引入一定的N后,能提高介质的电荷击穿强度,电荷击穿强度......
期刊
薄栅氮化物
金属-氧化物-硅结构
击穿
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MOS structure
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