以ICP-501为刻蚀设备，以C4F8和SF6为刻蚀气体，以Xe气为辅助气体，以lift-off方法得到的铬掩模对966线/mm的光栅进行刻蚀。结果表明，在选......

本文围绕取样光栅制作过程中的铬掩模占宽比测量展开了理论研究和实验研究。取样光栅要求1级平均衍射效率0.1%-0.3%，衍射效率RMS小......

<正> 从前,光刻技术作为照像制版技术应用于印刷工业。但近年来由于电子工业的发展,光刻技术更加引人重视,因而发展较为迅速。在电......