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铯溅射型负离子源相关论文
GIC-4117/HC1.7MV Tandetron上的MeV离子注入系统
利用通用离子公司(GIC)的4117型1.7MVTandetron离子束分析设备进行MeV级离子注入。所注入的离子能量范围由500keV到10MeV,离子的质量在240u以下,某些元素的负离子束流强度在150μA以......
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铯溅射型负离子源
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