高功率脉冲磁控溅射技术相关论文
高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)作为一门新兴的高电离物理气相沉积技术具有广阔的应用前景.然而该技术应用到工业过程中时,其电子......
会议
高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)作为一门新兴的电离化物理气相沉积技术已成为国内外研究热点。相比传统直流磁控溅射,HIPIMS放电......
学位
高功率脉冲磁控溅射技术是最新发展起来并受到广泛关注的一种高离化率物理气相沉积技术,它利用较高的脉冲峰值功率(超出传统磁控溅......
期刊
采用Cr靶、Si靶和Al靶作为靶材,利用高功率脉冲磁控溅射系统在304不锈钢和单晶硅片(100)基片表面沉积CrAlSiN纳米复合涂层,并测定......
