项目批准号 :6 95 76 0 36成果简介　　β- Fe Si2 作为一种新型半导体材料 ,具有 Eg=0 .84 - 0 .89e V直接带隙 ,并能在硅表面外......

本文就卷绕式高真空镀膜机用铝丝蒸发舟的蒸发温度与横向膜厚均匀性以及提高蒸发舟使用寿命等问题进行了探讨。 In this paper, t......

目的本文基于IDenticoat500高真空镀膜仪探究了高真空镀膜技术显现潜在手印的优化条件。方法通过改变客体摆放位置、金的用量、真......

高真空镀膜技术已广泛应用于工业领域,同时也逐渐被法庭科学领域作为手印证据提取的重要技术手段而应用。本文针对高真空镀膜法对......

目的通过对高真空镀膜方法和＂502＂方法显现手印的组合方法研究,得出常见客体上使用两种方法显现手印的最佳显现方案。方法对常见客体......