磁控溅射方法制备(CoCr/Pt)纳米多层膜及表征

来源 :第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:longyixu13543078183
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采用磁控溅射方法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜,研究了溅射气压对(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜的微结构和磁性的影响.所有样品溅射时玻璃基片温度保持在220℃,Ar溅射气压从0.4Pa到1.6Pa.研究结果表明,Ar溅射气压对(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜的微结构、垂直磁各向异性和矫顽力的很大的影响.所有样品的有效各向异性常数K<,eff>>0,具有垂直磁各向异性.X射线衍射结果显示,小角衍射峰很锐,样品有良好的周期性层状结构.随着Ar溅射气压增加,样品垂直膜面的矫顽力增加,但样品有效磁各向异性常数减小.原子力显微镜(AFM)照片显示,随着Ar溅射气压增加,其表面平均晶粒尺寸和粗糙度均增加.这是导致多层膜的垂直矫顽力增加和有效磁各向异性常数减小的因素.
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