【摘 要】
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在大规模和超大规模集成电路的制备中,光刻是一个重要的工艺过程,光刻的成本占整个芯片制造成本的40%。传统的化学放大光刻胶是由光刻胶主体材料、光致产酸剂、助剂和溶剂组
【机 构】
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中国科学院化学研究所光化学实验室;
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在大规模和超大规模集成电路的制备中,光刻是一个重要的工艺过程,光刻的成本占整个芯片制造成本的40%。传统的化学放大光刻胶是由光刻胶主体材料、光致产酸剂、助剂和溶剂组成。通过系统设计,将分子玻璃主体材料与光致产酸剂锍鎓盐键合,设计合成了一种单分子分子玻璃光刻胶[1-2],具有作为光刻胶主体材料的功能,同时可以自身产酸作为光致产酸剂作用于主体骨架,克服了多组分造成的相分离以及化学放大过程中酸扩散造成的图形边缘粗糙、分辨率降低等缺点。考察了该系列单分子光刻胶的基本性质及其在极紫外光刻中的应用,优化了其配方组成和光刻工艺。实验表明,锍鎓盐键合的分子玻璃单分子光刻胶是一类具有潜在应用前景的极紫外光刻胶。
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