光致产酸剂相关论文
通过Wittig反应合成带双键的非离子型产酸单体,将其与甲基丙烯酸叔丁酯在四氢呋喃中回流共聚,以偶氮二异丁腈作为引发剂,制得非离子型......
设计合成了一种共价键合光致产酸剂(PAG)的单分子树脂(molecular glass)材料HPS-MSF,该材料具有良好的热稳定性和成膜性。以该单分子树......
193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚......
在大规模和超大规模集成电路的制备中,光刻是一个重要的工艺过程,光刻的成本占整个芯片制造成本的40%。传统的化学放大光刻胶是由......
本文利用共振增强的飞秒受激拉曼光谱技术结合瞬态吸收光谱技术研究了光致产酸剂Pyranine发色团分子在水溶液中与醋酸根离子之间的......
浸没式光刻技术是在原干法光刻的基础上采用高折射率浸没液体取代原来空气的空间,从而提高光刻分辨率的一种先进技术.此项技术的实际......
本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248......
近几十年间,微电子技术得到了迅猛的发展。根据摩尔定律,集成电路的集成度每隔两年翻一番。制作当今集成电路高分辨率线路元件的核......
从193 nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193 nm深......
以苯酐、盐酸羟胺和4-甲基苯磺酰氯为原料,合成了N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯,并利用红外、核磁共振和紫外对其进行表征,研究了......