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本文介绍用磁控溅射技术开发精密电阻工艺.通过溅射反应气体、热处理温度等工艺技术的研究制作出TCR参数优异、长期稳定性高的NiCr薄膜电阻,满足星用电路对高精度、高稳定薄膜电阻的需求.
薄膜精密电阻制作技术
【摘 要】
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本文介绍用磁控溅射技术开发精密电阻工艺.通过溅射反应气体、热处理温度等工艺技术的研究制作出TCR参数优异、长期稳定性高的NiCr薄膜电阻,满足星用电路对高精度、高稳定薄
【机 构】
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中国航天科技集团第九研究院第七七一研究所,西安 710054
【出 处】
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第十六届全国混合集成电路学术会议
【发表日期】
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2009年期
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