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离子束辅助淀积工艺研究
离子束辅助淀积工艺研究
来源 :中国光学学会85年光学薄膜学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yhmlivefor49
【摘 要】
:
该文叙述了离子束辅助淀积工艺装置、实验过程和结论。以ZnS—MgF[*v2*]薄膜为例,说明了淀积时助以离子轰击的电子来蒸镀工艺对薄膜的某些影响。用Ar[*+*]离子束辅助淀积的ZnS
【作 者】
:
陈兴一
卞淑琴
【机 构】
:
航天部八三五八研究所
【出 处】
:
中国光学学会85年光学薄膜学术讨论会
【发表日期】
:
1985年期
【关键词】
:
离子束辅助淀积
干涉滤光片
波长漂移量
蒸镀工艺
实验过程
离子轰击
工艺装置
薄膜
叙述
散射
多层
电子
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该文叙述了离子束辅助淀积工艺装置、实验过程和结论。以ZnS—MgF[*v2*]薄膜为例,说明了淀积时助以离子轰击的电子来蒸镀工艺对薄膜的某些影响。用Ar[*+*]离子束辅助淀积的ZnS—AgF[*v2*]多层干涉滤光片的波长漂移量大大减小,散射下降。(本刊录)
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