【摘 要】
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由于磁控溅射能够精确地控制工艺参数和膜层质量,它已经成为大面积镀膜技术的主流。然而,这种镀膜技术亦存在一些缺点,特别是在反应溅射过程中存在着工艺不稳定及沉积速率低
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由于磁控溅射能够精确地控制工艺参数和膜层质量,它已经成为大面积镀膜技术的主流。然而,这种镀膜技术亦存在一些缺点,特别是在反应溅射过程中存在着工艺不稳定及沉积速率低等问题。所以,普通的直流溅射对于大面积镀膜产品的工业化生产来说不是最佳的工艺手段。但是由于脉冲磁控溅射技术的出现,对于大面积反应溅射沉积化合物薄膜来说又开辟了新的途径。这种中频（MF）电源供电的孪生靶磁控溅射（Twin-Mag）并结合智能化的工艺控制系统（IPCS）,使反应溅射的沉积速率提高1～5倍,并能在长时间内维持稳定的镀膜状态。因此,大面积镀膜在低幅射玻璃、汽车挡风玻璃、ITO透明导电玻璃、高反射率玻璃、减反射（AR）和电磁干扰（EMI）屏蔽玻璃以及TiO2光催化的自清洁玻璃等方面又有了新的进展。但是,如何进一步提高沉积速率和靶材利用率以及降低装置成本仍然面临着持久性的挑战。
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