【摘 要】
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该文主要介绍了利用光学曝光手段加工亚微米特种器件掩模工艺过程中的几个问题和解决方法。
【出 处】
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第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
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该文主要介绍了利用光学曝光手段加工亚微米特种器件掩模工艺过程中的几个问题和解决方法。
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