【摘 要】
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以单晶Si(111)为基底使用双槽法电结晶制备Co/Pd纳米多层膜,确定了工艺条件。通过电位阶跃法探讨了镀层晶体成核机理,Co、Pd电结晶初期均为三维瞬时成核过程.使用石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中膜的质量.X射线衍射(XRD)研究显示:多层膜具有较好的晶格取向,出现Co/Pd(111)的合金峰.并用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Pd多层膜的磁性能.磁滞回线表明:矫顽力随着磁性
【机 构】
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上海大学理学院化学系上海200444
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以单晶Si(111)为基底使用双槽法电结晶制备Co/Pd纳米多层膜,确定了工艺条件。通过电位阶跃法探讨了镀层晶体成核机理,Co、Pd电结晶初期均为三维瞬时成核过程.使用石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中膜的质量.X射线衍射(XRD)研究显示:多层膜具有较好的晶格取向,出现Co/Pd(111)的合金峰.并用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Pd多层膜的磁性能.磁滞回线表明:矫顽力随着磁性层厚度的减小而增大,可达到1130 Oe左右.
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在现代质量管理理念正进一步深化的年代，电镀行业显然已经相对落后。电镀行业要实现产业升级，必须加速更新观念。镀液维护一直是电镀生产过程质量控制中的薄弱环节，因此笔者呼吁“强化镀液维护管理”，就是想促进电镀企业转变镀液维护管理的理念，切实地从传统的事后维护管理转变为对镀液进行事先预防性维护管理。
铜基底上电沉积制备了CoNiMo(P)非晶软磁合金薄膜。设计正交实验,并对实验数据进行误差分析,得到制备CoNiMo(P)非晶软磁合金薄膜的优化工艺条件为。实验表明,优化条件下制备的沉积态CoNiMo(P)合金薄膜具有非晶态结构、膜面光亮、平整、致密。磁性测量结果显示:CoNiMo(P)合金薄膜的易磁化轴平行于膜面,平行方向上饱和磁化强度(Ms)为142 emu g-1,矫顽力(Hc)为25Oe.
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利用线性电位扫描技术研究了甘氨酸对锡、镍电沉积过程的影响,采用X-射线衍射和扫描隧道显微镜分析了Sn-Ni合金沉积层的相结构、表面形貌和沉积的初期行为。结果表明在焦磷酸盐体系中添加甘氨酸可以获得了表面光亮、均匀的Sn-Ni沉积层,Sn-Ni合金层呈现(110)高择优取向,该Sn-Ni合金沉积层的物相是γ-NiSn金属化合物。合金电沉积的初期是以三维岛状模式生长,基本沿袭基底铜表面结构;高过电位使成
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