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P型栅GaN基增强型HEMT制备的关键技术研究
P型栅GaN基增强型HEMT制备的关键技术研究
来源 :第十五届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhenlic0300
【摘 要】
:
P型栅GaN基增强型HEMT(p-GaN E-HEMT)是当前GaN基电力电子器件研究中最具应用前景的技术方案之一,已为业界广泛采用,如加拿大GaN System、美国EPC、日本Panasonic等。
【作 者】
:
钟耀宗
周宇
高宏伟
戴淑君
冯美鑫
何俊蕾
孙钱
张继军
杨辉
【机 构】
:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州215123;中国科学院纳米器件和应用重点实验室,苏州215123;上海大学材料科学与工程学院,上海200444中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州
【出 处】
:
第十五届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
:
2016年12期
【关键词】
:
p型栅
增强型HEMT
刻蚀
钝化
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P型栅GaN基增强型HEMT(p-GaN E-HEMT)是当前GaN基电力电子器件研究中最具应用前景的技术方案之一,已为业界广泛采用,如加拿大GaN System、美国EPC、日本Panasonic等。
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