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质子栅氧化层位移损伤理论计算
质子栅氧化层位移损伤理论计算
来源 :第十届全国蒙特卡罗方法及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nini863700
【摘 要】
:
基于蒙卡软件Geant4,选择和添加原子碰撞物理过程,设置模型中的参数,模拟输运粒子与晶格原子之间的屏蔽库仑散射。计算1Mev质子不同厚度二氧化硅层的空位分布、空位总数,以及不同
【作 者】
:
王园明
陈伟
【机 构】
:
西北核技术研究所西安710024
【出 处】
:
第十届全国蒙特卡罗方法及其应用学术会议
【发表日期】
:
2009年5期
【关键词】
:
质子
栅氧化层
位移损伤
空位分布
非电离能量沉积
Geant4软件
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基于蒙卡软件Geant4,选择和添加原子碰撞物理过程,设置模型中的参数,模拟输运粒子与晶格原子之间的屏蔽库仑散射。计算1Mev质子不同厚度二氧化硅层的空位分布、空位总数,以及不同厚度二氧化硅层的非电离能量沉积和电离能量沉积,通过计算发现,空间质子位移损伤对器件栅氧不会造成致命的损害。
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