半导体激光美白不同方式对牙髓组织中P物质、CGRP的影响

来源 :中华口腔医学会牙体牙髓病学专业委员会第五次全国牙体牙髓病学临床学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zxz6381
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  目的:观察半导体激光美白时,使用连续频率和间断频率后,不同时段牙髓组织中的P物质和降钙素相关肽(CGRP)表达的变化。方法:3月龄SD雄性大鼠随机分为正常组(A组)、半导体激光美白连续频率组(B组)、半导体激光美白间断频率组(C组);B组选择半导体激光美白中的7W、20HZ、15S连续频率照射大鼠上颌第一二磨牙,术后即刻(B0组)、1天(B1组)、3天(B3组)、7天(B7组)处死大鼠;C组选择半导体激光美白中的7W、20HZ、30S、1/2间断频率照射大鼠上颌第一二磨牙,术后即刻(C0组)、1天(C1组)、3天(C3组)、7天(C7组)处死大鼠;取大鼠上颌第一二磨牙制作组织切片观察牙髓组织中P物质、CGRP的变化。结果:牙髓组织中P物质、CGRP的表达在B、C各组均高于A组;从即刻组开始升高,3天组达最高,然后开始降低;同时段比较B组高于C组,统计学检验支持此结果。结论:美白有效时间相同,但半导体激光美白连续频率的刺激性显著高于间断频率,提示美白时首选间断频率;同时,激光照射3天内牙髓组织中疼痛递质表达不断升高,应多注意牙髓的保护。
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