基于突破光学“阿贝衍射极限”限制定律的受激发射损耗(STED)显微镜的原理,自主搭建了一套基于连续激光光源的光学超分辨成像系统。首先对超分辨系统中的最重要的消激发光进行详细的研究,通过模拟计算和实验,比较系统地研究了消激发光从实心圆斑到圆环状的调制过程,实验中结合CCD实时记录消激发光的调制、激发光和消激发光的耦合等过程。其次,对自主搭建的光学超分辨系统中所涉及到的具有各种偏振态的消激发光的相位调制进行了模拟计算。模拟了用螺旋相位板调制四种偏振态激光,模拟了双相位板对消激光的调制。模拟计算结果表明,圆π相位板的加入使得激光光斑产生纵向的压缩提高纵向的分辨率,但同时也在扩大焦平面内中心暗点的区域,降低成像系统的二维分辨率：双相位板得到的激光光斑,可以采取整体加大激光光强和使用高倍聚焦物镜的方法,在一定程度上缩小光斑二维平面内的暗区,提高超分辨系统的二维分辨率。模拟计算还得到一些有意义的特别形状的中心暗斑,如纵向为中空的“中”字型光斑、焦平面内为“十”字形暗区；模拟计算中还发现：通过两个相位板调制得到的线偏振光斑的垂直叠加可以获得圆环光斑,这是一种新的获得圆环光斑的方法。最后,基于STED系统进行了纳米加工研究,分别利用波长为405nm、532nm的连续激光光源开展纳米结构的加工实验。首先,用激光光束质量较差的405nm激光器初步进行纳米柱阵列的加工,实验发现STED系统中的消激发光具有纳米柱加工的能力,并且纳米柱的直径随着激光功率的增加而减小；随后,采用光束质量较好的532nm激光器,系统研究了激光能量与加工纳米柱直径之间的量化关系,实验得到了整齐均匀的纳米柱整列,单个纳米柱的直径超过了光学的衍射极限(<125nm),结了纳米柱直径与532nm激光能量的关系。另外,还研制了微米结构和纳米柱复合的表面形貌。