激光直写系统相关论文
飞秒矢量激光直写技术可以极大地压缩激光作用区域，减少激光对材料的热影响，其作用时间以飞秒尺度计算，而离子体生成时间以皮秒尺度计......
A nanopositioning system of both millimetric stroke and nanometric tracking accuracy is a key component for nanofabricat......
凸非球面检测问题一直是限制其应用的主要瓶颈,在凹球面上制作出计算全息图,通过设计使其衍射面与待检凸非球面一致,可实现凸非球......
衍射光栅作为微纳光学器件中的关键色散元器件，具有分束、偏振、相位匹配等特性，广泛应用于激光器、激光调制、激光计量学、激光测量......
激光直写是一种适用于衍射光学器件及掩模加工的方法。利用声光调制器对曝光功率进行精确控制对所制作器件的性能是至关重要的。首......
衍射光学器件DOE是基于衍射光学原理制成的微光学器件。采用类似于微电子加工手段的激光辅助制造技术－－激光直写技术，可以制作具有高......
介绍了在激光直写系统中用于光功率控制的声光调制器，并根据光强稳定度要求分析了出了调制器的在数和相关的控制电路。按控制原理及......
ＩＳＩ┐２８０２激光直写系统简介微细加工光学技术国家重点实验室于１９９６年从加拿大引进了国内第一台激光直写系统（又称激光图形发生器），型号为ＩＳＩ－２８０２，生产厂家......
一种新的采用基准离焦信号的针孔调焦方案,用于激光直写的自动对焦子系统.通过在离焦曲线上提取参考离焦信号,建立基准离焦判据,它......
保证激光直写系统中曝光光功率的稳定和连续可调对所制作的二元器件的性能具有重要意义。利用MABLAB工具对声光调制器的数学模型进......
介绍了研制的极坐标激光直接写入系统，该系统可用于二元光学掩模的制作，最大掩模直径为１００ｍｍ，最细曝光线宽为１．０μｍ套准精度及自动调焦度分别为......
激光直写是一种适用于衍射光学器件及掩模加工的方法。利用声光调制器对曝光功率进行精确控制对所制作器件的性能是至关重要的。首......
基于突破光学“阿贝衍射极限”限制定律的受激发射损耗(STED)显微镜的原理,自主搭建了一套基于连续激光光源的光学超分辨成像系统......
激光光功率控制对激光加工技术极为重要，本文介绍了在激光直写系统中用于光功率控制的声光调制器件并根据光强稳定度要求分析给出了......
激光直写系统是制作光刻掩模和ASIC器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了男内第一台激光直写系统，利用这台系......
