为克服自上而下的传统光刻法的物理极限及高成本问题,替代性的图案化技术必须被发展起来。自下而上的自组装方式因能组装出亚10纳米的特征尺寸的层状及柱状相而受到广泛的关注。然而,通过合适的策略进行组装获取亚5纳米特征尺寸的层状或柱状相结构并伴随着较好热稳定性的组装体材料,仍然是自组装领域中的一个巨大挑战。这里,我们以结晶驱动的思想为向导,利用新型巨型分子的自组装获得了3纳米周期尺寸的层状相,这是目前大分子本体自组装领域所能取得的最小层状周期尺寸。另外,将组装得到的层状相结构进一步交联超声,制备得了小于10纳米厚度的纳米片。研究的主要内容和结果如下:1.以结晶性的乙烯基多面体低聚倍半硅氧烷（VPOSS）和精确分子量的低聚左旋乳酸（o LLA）为底物合成了一系列的新型巨型分子。这些新型巨型分子表现出了优于小分子液晶的热稳定性,同时其组装得到的层状相周期尺寸低至3纳米,这是高χ值低N值嵌段共聚物及复杂拓扑结构嵌段共聚物目前所不能达到的尺寸。另外,进一步探究新型巨型分子组装驱动力的来源,发现其驱动力来自于VPOSS的结晶。结合VPOSS及o LLA横截面积的计算,推导出层状相新型巨型分子的分子排列方式。2.将组装成层状相的新型巨型分子进一步交联及超声进行纳米片的制备。结果表明,利用γ射线交联并热解o LLA的方式的效果最好。在不添加溶剂的情况下,利用热交联和光交联,发现并没有很好的纳米片生成;用γ射线交联,发现在VPOSS-o LLA16的交联产物里生成了较多的纳米片。进一步探索正己胺（有机弱碱）、碳酸钾（无机弱碱）及高温对去除o LLA的有效性,发现采用高温处理的效果明显。最后在“γ射线剂量500 k Gy+400℃+超声”的条件下,能够成功制备得大量的纳米片。基于新型巨型分子结晶驱动获得的3纳米层状周期尺寸是已知大分子本体自组装领域得到的最小的尺寸,该方式为获取亚5纳米特征尺寸的本体自组装提供了一种新的策略。鉴于巨型分子的高硅含量而赋予的高刻蚀衬度,该体系有望进一步实现图案化。由γ射线交联并热解o LLA获取二维纳米片的方式,目前尚未有相关报道,该方式为制备二维纳米材料乃至功能性多维纳米材料提供了一种新的思路。