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在给定两水平部分因析设计作为初始设计的情况下，有时会对该初始设计采用一种简单但十分有用的doubling方法产生一个新的两水平的新设计，其试验行数和试验因子个数是初始设计的两倍，并把产生的新设计称为double设计。
本文基于中心L2偏差和可卷L2偏差，对由两水平U-型设计X构造的double设计D(X)的均匀性作了研究和讨论，得到了double设计在这两种偏差下的下界。基于这些下界，可以度量double设计的均匀性程度。