配向膜涂布机的洁净度改善研究

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随着人们对液晶显示器(LCD,Liquid crystal display)显示效果要求的不断提高,新型液晶面板被不断地开发出来。为达到减薄新型面板整体厚度同时降低BOM材料成本的目的,厂商正致力于减薄各层的厚度,其中包括配向膜层。但是更薄的配向膜层要求更高的生产洁净度,使得原来的设备不能满足新产品生产的需求。在不重新购置新设备、不进行大范围改造、不进行大成本投入的前提下,如何提升设备洁净度成为一个非常重要的研究课题。若能使用旧设备满足新的洁净度要求,则能大大减轻设备购置成本,有利与企业发展,并在市场中赢得更大的竞争力。本论文以TCL华星光电技术有限公司的配向膜涂布机洁净度改善为例,开展设备内流场研究。文章介绍了洁净度的定义,洁净室设备净化的原理与结构,包含设备内流场压差的设计。同时也介绍了配向膜涂布工艺流程,配向膜涂布设备的结构与特点。分析了配向膜涂布设备内粉尘的类型。详细研究粉尘的来源,包括洁净棚、顶部过滤器、内机构磨损、耗材残留、Plasma清洗机构等,并探寻其优化方法以提高设备洁净度。在消除配向膜涂布设备自身发尘源后,为进一步提高设备洁净度,论文着力于提高设备内流场自净能力的研究。基于设备自净能力的相关参数,分析了高效过滤风机(FFU,Filter fan unit)风速与成膜质量的关系以及设备内流场的逆流、扰流对膜片的影响。通过引入“辅助气流”、“局部负压”的方法,把设备内的流场分割成几个独立的区域模型。设计不同的气流模式,把传统的单一型流场改变为复合型流场,进而克服设备本身的限制,大大提高设备内粉尘的排出效率,提升设备的自净能力。最终使设备的洁净度由百级提升到了十级,对实际生产制造有重大的指导意义与应用价值。
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