容栅式位移传感器是数显卡尺的核心组件,在工业技术领域具有广泛的应用前景,研究改进其制作工艺,提高生产效率及产品的合格率具有很重要的意义。本论文对容栅式位移传感器检测单元制作过程当中的磁控溅射镀膜及微加工进行了分析研究,针对存在的问题给出了合理的解决方案,优化了工艺参数,对提高效率和产品合格率有着重要的参考价值。通过不断测试和对比,我们总结出了一套合理的玻璃片清洗步骤,使其洁净度大幅度提高,为提升生产效率和产品合格率提供了必要的条件。在镀膜过程中采用自主设计的基片架(在加热状态下),使得产品的合格率由原来的19.4%提高到23.6%,同时也表明引入更多基片位不会显著增加交叉污染;在镀膜过程中采用加热的方法(并且已经使用了新型基片架),使得产品的合格率由原来的12.5%提高到23.6%;使用自制掩模版结合磁控溅射镀膜形成保护层和绝缘层图形,直接跳过光刻、刻蚀等工艺,显著提高产品生产效率。通过在生产过程中不断分析、总结得出的一些关键的优化工艺参数,有助于进一步改进工艺流程、仪器结构,提高合格率和生产效率。