近年来,TiN和TiC涂层已广泛应用于保护层领域,成为国内外研究较多、应用较广泛的耐磨涂层。TiN涂层具有较良好的综合性能,但用于机械工业中的刀具、模具,其硬度还显得稍低；TiC涂层的硬度虽然高,但膜的韧性差,在高载荷或非连续切削冲击条件下,膜容易发生脆断。而TiCN涂层是当前应用较广的非常重要的保护性硬质涂层,它在很大程度上克服了TiN和TiC涂层的缺点,具有优良的力学性能和化学稳定性、良好的耐磨、耐腐蚀性能。本文同时采用阴极电弧离子镀及磁控溅射技术分别离化纯度为99.99%的钛靶和碳靶,在高速钢基底上沉积TiCN涂层样品。沉积过程中,在基底上施加直流叠加脉冲偏压。我们运用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)来研究涂层的晶体结构和表面形貌,用维式硬度计对涂层的显微硬度进行测试,根据XP-2仪的曲线来测量涂层的厚度,计算沉积速率。本文通过分别改变不同的直流偏压、脉冲偏压以及占空比,讨论其对TiCN涂层组织结构和力学性能的影响。结果显示在直流叠加脉冲偏压的作用下,采取阴极电弧离子镀及磁控溅射技术复合制备的TiCN涂层具有优良的性能。该工艺制备的TiCN涂层沉积速率高,对于涂层表面大颗粒的净化作用明显,同时获得了较高的显微硬度,最高可达3800(HV)。