【摘 要】
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该文研究射频磁控溅射Ti-Ni-Cu形状记忆薄膜的制备过程、溅射参数、热处理条件、应力等因素对薄膜的成分和相变行为的影响,并从电子层次解释了单斜相马氏体开始温度M点的稳定
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该文研究射频磁控溅射Ti-Ni-Cu形状记忆薄膜的制备过程、溅射参数、热处理条件、应力等因素对薄膜的成分和相变行为的影响,并从电子层次解释了单斜相马氏体开始温度M<,s>点的稳定性.该文首次观察到了Ti-Ni-Cu中B<,19>,相单斜相马氏体在光学显微镜下呈现"梅花状".论文着重讨论了余氏经验电子理论在Ti-Ni-Cu领域的应用.可用键络结构中最强键的共价电子对数业衡量马氏体开始温度M<,S>的高低.
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