纳米压印具有高分辨率、高产量、低成本的优点，开辟了各种纳米器件生产的广阔前景，展示了广阔的应用领域，已被纳入国际半导体蓝图(ITRS)，成为下一代22nm节点光刻技术的代表之一。然而传统的纳米压印技术是单片整体式实现图形复制，效率偏低，同时在大面积压印过程中需要很大的压印力和脱模力，容易造成模板、胶层图形结构的损坏。卷对卷纳米压印基于柔性模板和基底的局部接触方式进行微纳结构图形的压印成型和脱模，实现微纳米结构的低压连续复制。本文根据卷对卷纳米压印的工艺流程研制了压印实验平台，其包括辊系（压印辊、脱模辊、支撑辊）、控制电机、传动机构、辊缝和辊间距微调机构等部分，实现压印/固化时间控制、压印力控制两大主要功能。并在以PET为基底的聚合物胶层上成功复制出了不同分辨率的纳米结构图形。脱模是纳米压印的关键环节，复制图形的很多缺陷如表面磨损、根断、轮廓变形等都是在脱模过程中产生的，直接决定了最终的图形复制质量。本文首先从运动角度分析了卷对卷纳米压印的脱模过程，阐明旋转式脱模是一个渐进逐步的接触面脱离过程；根据表面粘着能理论计算出模板与胶层顺利脱模的前提条件；分析了在两种脱模（平行式、垂直式）过程中两类接触面（平行接触面、侧壁接触面）之间的相互作用力，推导出平行接触面、侧壁接触面脱开的脱模力计算公式；通过有限元模拟得出接触面在脱模过程中的应力分布状态，推测出最易破坏点。结合卷对卷纳米压印和等离子体聚合法设计了一个连续制作聚合物纳米流体通道的工艺，并在试验中得到验证。