含三氰基二氢呋喃结构的非线性光学材料的合成及性能研究

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随着高速光通讯、光信息处理和光电子学的飞速发展,作为集成光学器件的关键材料,非线性光学(Nonlinear Optic,NLO)材料得到越来越广泛的重视。其中有机非线性光学材料由于具有较大的非线性光学系数、快的响应速度、高损伤阈值、低介电常数及良好的可加工性能,更是受到了科研工作者的深切关注,已成为新一代功能材料的研究热点。本文综述了非线性光学特别是有机非线性光学材料的研究进展,在此基础上,以增大分子二阶非线性系数和适应器件的制作需求为目的,设计并合成了含新型吸电子基团的有机非线性光学分子,通过改变共轭链的长度合成了一系列相关化合物。探讨了相关因素对反应的影响规律,通过~1H-NMR、IR和元素分析分别对主要产物的结构进行了表征。TGA测试曲线结果表明,两种主要产物2,2-二甲基-3(4-二乙氨基苯乙烯基)-4-氰基-5(二氰基亚甲基)-2,5-二氢呋喃(II)和4-二甲胺基-4’{[2,2-二甲基-4-氰基-5 (二氰基亚甲基)-2,5-二氢呋喃]-3-乙烯基}偶氮苯(VII)的分解温度分别达到259.16℃和247.64℃,耐热性能良好,可以达到器件制备的要求。通过溶致变色法计算了主要产物(II)的品质参数,μgβ=6520×10-48esu;通过电场诱导二次谐波(EFISH)法测定其非线性光学系数为6.46×10-9esu(2.70pm/V)。计算和测试结果均表明此类含有三氰基二氢呋喃吸电子结构的有机材料具有良好的非线性光学特性。
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