本文合成了三种低聚物／层状硅酸盐材料，并通过IR、XRD、DTA-TG、荧光光谱等分析手段对其进行了表征。这三种低聚物／层状硅酸盐材料的制备及表征结果如下：（1）以稀土低聚物季铵盐（Eu（Phen）（BA）₂AA-co-MBDAC）修饰蒙脱土。得到的低聚物／层状硅酸盐材料在615nm处有较强荧光发射。并且通过对不同物质的量配比的低聚物季铵盐进行稀土含量及荧光性能的综合分析，得出当M_{Eu（Phen）（BA）2AA}／M_MBDAC=1／4时，荧光发射强度最大。（2）以可聚合性季铵盐与4—乙烯吡啶共聚物（MBDAC-co-4-VP）通过阳离子交换修饰蒙脱土。通过改变共聚单体的比例，可以得到具有不同荧光发射波长的低聚物季铵盐。荧光分析得出低聚物季铵盐修饰蒙脱土后，只有荧光强度上的变化，而发射光谱峰位几乎不变。（3）聚合性季铵盐嵌入蒙脱土后再与稀土配合物发生共聚，得到荧光性能良好的低聚物／层状硅酸盐材料。XRD数据表明：稀土配合物只能与蒙脱土层间的可聚合性季铵盐发生1：1型聚合。 将上述三种材料与聚碳酸酯基质通过熔融共混制备PC／蒙脱土复合功能材料，研究发现，聚合物／层状硅酸盐材料与聚碳酸酯基体相容性差，未能形成纳米材料。这种状况可望通过改变基体及共混方法得到改善。