本文利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备在H13钢基体上沉积得到了CrNiTiA1N新型五元复合涂层。采用SEM、EDS、XRD等一系列测试手段对涂层的形貌、成分和相结构进行了表征和分析；测试了涂层的厚度、显微硬度、韧性、结合强度、摩擦磨损等性能。主要考察了不同Ni靶电流和不同基体硬度对CrNiTiA1N涂层组织结构及各项性能的影响。研究发现：(1)Ni靶电流对CrNiTiA1N涂层的形貌、成分和相结构有明显影响,随Ni靶电流增大(0-5A)：涂层表面晶粒细化,并出现弥撒分布的富Ni区；涂层中Ni含量上升(0～26.57at%),Cr(43.12-31.29at%)、N(47.03-33.06at%)含量相应下降；涂层择优取向由应变能最低的(111)晶面逐步转变为应变能较高的(200)晶面。(2) CrNiTiA1N涂层厚度随Ni靶电流增大波动较小,所有涂层厚度都在3.3-3.6umm之间；所得涂层的显微硬度都远远高于基体,Ni靶电流为3A时涂层硬度最高,可达2585HV；涂层硬度随Ni靶电流增大,先轻微上升,而后便急剧下降；随Ni靶电流增大,涂层韧性呈现先变好后变坏的趋势,Ni靶电流为3A时涂层表现出最好的韧性,Ni含量较高的两组涂层韧性好于Ni含量较低的两组涂层；Ni靶电流在0-3A的范围内对涂层的膜／基结合强度影响不大(Lc维持在60N左右),当Ni靶电流为5A时,Lc降到了55N；高硬度基体对涂层的承载能力较强,硬基体涂层的基本力学性能明显好优于软基体涂层。(3) CrNiTiA1N涂层的摩擦磨损性能随Ni靶电流的增大先变好后变坏,磨损机制由粘着磨损向磨粒磨损转换,综合基本力学性能最优的涂层(Ni靶电流为3A)最耐磨。