本文结合表面离子印迹技术,为选择性去除特定重金属离子或回收贵金属离子提供了一条新途径,该法合成的吸附剂能够对模板离子具有选择吸附性能和特异亲和性。本课题以硅胶为载体,3-氨基丙基三乙氧基硅烷(APS/KH550)为偶联剂,水杨醛类Schiff碱(Sal)、丙酮酸类Schiff碱(PA)、一溴乙酸类Schiff碱(MBAA)为三种功能单体,环氧氯丙烷(ECH)为交联剂,Pb2+为模板离子,利用表面离子印迹技术合成了一种新型离子印迹Schiff碱配体硅胶吸附材料IIP-Sal/SiO2、IIP-PA/SiO2、IIP-MBAA/SiO2,考察了烷基化硅胶AP-SiO2和离子印迹聚合物IIP-SiO2的合成条件,测定并探讨了该材料对重金属离子的吸附特性和机理。本文包括以下三方面的工作：1.探究了烷基化硅胶的合成条件及最佳工艺。水热合成AP-SiO2的较优的条件为：反应温度为120℃,反应时间72h,无水乙醇：活化硅胶=4:1(mL:g), KH550活化硅胶=1：1(mL：g)左右。2.合成了三种新型Schiff碱配体,通过表面印迹法制备了铅离子印迹聚合物。3.用静态吸附法研究了IIP-SiO2和NIIP-SiO2的吸附过程的影响因素。结果表明：室温条件下,将0.1g吸附剂加入到10mL浓度为100mg/LpH值在5.0-6.0之间的铅储备液中,可达到较佳的吸附效果,在15-30min达到饱和吸附时,吸附量在1.0-1.4之间。4.研究了IIP-SiO2与NIIP-SiO2对Pb2+的选择识别能力、IIP-siO2对Pb2+的吸附热力学、不同浓度下IIP-SiO2与NITP-SiO2的Pb2+吸附动力学以及IIP-SiO2的洗脱性能与再生性能。