本文利用微弧氧化技术,采用硅酸盐电解液体系,在ZE10镁合金的表面成功制备了微弧氧化膜。采用涡流测厚仪、X射线衍射、扫描电镜、能谱仪和电化学工作站等,研究了电压、氧化时间、频率和占空比对镁合金微弧氧化膜的厚度、表面形貌和耐蚀性的影响规律,为了进一步提高微弧氧化膜层的耐腐蚀性能,分别进行了在电解液、表面膜层引入稀土成分或溶胶-凝胶封孔处理,并分析了镁合金表面膜层的厚度、表面形貌和耐蚀性的变化。研究结果表明,在200～350V电压下,随着电压的增大,膜层不断增厚,膜层孔径变大；随着氧化时间的增加,膜厚迅速增加,膜层孔径不断变大,20min后膜层厚度基本稳定。频率和占空比对膜厚影响很小,高频下得到的微弧氧化膜孔径变小。微弧氧化膜耐蚀性随电压的增大和时间的延长均呈现先增强后降低的趋势,占空比和频率对膜层耐蚀性也有一定的影响。微弧氧化膜层分为疏松层,致密层和过渡层,XRD和能谱表明,微弧氧化膜层主要由MgO、MgF2和Mg2Si04组成。不同稀土添加方法研究结果表明,稀土转化膜前处理和在电解液中添加Ce元素能降低膜层厚度,减少膜层微裂纹,提高膜层致密度,进一步提高膜层的耐腐蚀性能。稀土转化膜前处理后在添加稀土的电解液中微弧氧化得到的膜层微裂纹最少,致密度最高,耐蚀性最好。采用醇盐水解法,以正硅酸乙酯为前驱体,硝酸为催化剂制备SiO2溶胶。在微弧氧化膜表面用浸渍提拉法和旋涂法制备了一层SiO2溶胶-凝胶涂层。研究结果表明,浸渍提拉法和旋涂法都能在微弧氧化膜表面形成一层均匀的膜层,溶胶能够进入微弧氧化膜层的孔隙当中有效封孔。封孔工艺能进一步提高镁合金微弧氧化膜的耐腐蚀性能,浸渍提拉法比旋涂法涂覆溶胶-凝胶膜层的耐蚀性要好。