反应磁控溅射金属掺杂Cu3N薄膜的制备及其特性研究

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【摘要】

：

Cu3N薄膜由于具有高电阻率,低热分解温度,在红外和可见光波段与Cu单质的反射率有明显的差别,使其在光学存储,高速集成电路以及太阳能电池领域有广泛的应用.由于Cu原子没有占据其(111)面的紧密堆积区域,如果其他原子填充到其体心位置处,将引起其电学和光学性能的显著变化.首先,利用直流反应磁控溅射方法,在Si(100)和ITO玻璃基底上制备了Cu3N薄膜,通过控制实验参数得到了最佳的Cu3N薄膜样品

【作者】

：

郭智文

【机构】

：

延边大学

【发表日期】

：

2013年05期

【关键词】

：

磁控溅射 Cu3N薄膜 X射线衍射电阻率光学性能

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