Cu3N薄膜相关论文
Cu3N薄膜由于具有高电阻率，低热分解温度，在红外和可见光波段与Cu单质的反射率有明显的差别，使其在光学存储，高速集成电路以及太阳能电......
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本文采用射频反应磁控溅射方法在玻璃基底上制备了纳米CU3N薄膜，并研究了溅射工艺参数和Ni掺杂对薄膜的成份、结构、表面形貌、电学......
采用射频反应磁控溅射方法在玻璃基底上制备了Ni掺杂Cu3N薄膜，并研究了Ni掺杂对CusN的结构、电学性能和光学性能的影响。研究发现：Ni......
Cu3N薄膜的晶面取向、沉积速率、电学特性等性质除与制备方法有关外，还和制备工艺参数有很大关系。溅射法制备Cu3N薄膜工艺参数主要......
采用射频反应磁控溅射镀膜方法在玻璃基底上制备了Cr掺杂Cu3N薄膜，并研究了Cr掺杂对Cu3N薄膜的结构、形貌和光学特性的影响。x射线......
Cu3N薄膜是近10年来研究的热点材料之一。Cu3N是立方反ReO3结构，理想立方反ReO3结构的一个晶胞中Cu原子占据立方边的中心位置而N原......
采用反应射频磁控溅射的方法在不同的氮气分压的条件下,在玻璃基底上成功制备了氮化铜(Cu3N)薄膜.XRD显示氮气的气氛影响薄膜的择......
