随着镀膜玻璃这一产业的不断发展,对镀膜玻璃的需求会越来越高,行业标准也越来越严格,因此,开发性能优越的镀膜玻璃已经成为当今研究的热点。本文从提高镀膜玻璃的可见光透过率和提高镀膜玻璃的膜基结合力两个方面,分别开发了两种新型玻璃基板,并对其进行镀膜,研究了这两种新型镀膜玻璃在所需性能上的影响。首先为了提高镀膜玻璃的可见光透过率,本研究通过反胶束溶液刻蚀法制备出一种新型玻璃基板,即多孔增透玻璃。表面形成了蜂窝状的多孔膜层,减小了可见光的反射率,从而使可见光平均透过率提高了 7%。由于避免了使用HF或氟硅酸,因此这种化学刻蚀环境友好。随后通过一系列射频磁控溅射实验,探究出了可见光平均透过率高,紫外截止率最高的最佳条件。在此条件下,分别在制备的多孔增透玻璃和普通玻璃上镀CeO2/TiO2防紫外线膜。并采用紫外-可见分光光度计、SEM、XRD、XPS等测试手段对样品进行了分析表征。结果表明,在相同的镀膜条件下,当镀膜后多孔增透玻璃与镀膜普通玻璃的紫外光阻隔率均为99%时,多孔增透玻璃镀膜后的可见光平均透过率为85%,而普通玻璃镀膜后的可见光平均透过率仅为79%。此外,由于玻璃表面上的孔结构也提高了薄膜与基板的接触面积,膜基结合力提高2倍左右。此外,为了提高薄膜与基板之间的结合力,本研究提出了反胶束蚀刻技术,在玻璃基板表面产生微米级尺寸的球形凹坑,来提高基板粗糙度,从而增加膜基结合力。当蚀刻的玻璃用作镀膜的基板时,镀膜的材料将嵌入这些凹坑中并获得波状的3D膜。由于与平板玻璃上的薄膜相比,微米级孔坑玻璃的接触表面大大增加,因此可以显著增强薄膜对玻璃的粘附性。蚀刻技术增大了玻璃基板的粗糙度约9～20倍,膜基结合力提高了 2～4倍,不仅增强了膜与基板的粘附性,而且增强了膜与膜的粘附性在蚀刻的玻璃上沉积可产生更致密的薄膜。与此同时,这些薄膜表现出更高的硬度,杨氏模量和导电性。