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浮选中矿再磨是浮选流程中的重要作业。浮选中矿主要分为精选尾矿和扫选精矿两类；中矿再磨前预处理方式主要有直接再磨，脱药再磨和分级再磨三种。本文将浮选中矿再磨工艺和浮选矿浆电位调控技术相结合，研究了不同中矿处理方式下，再磨矿浆电位变化规律及其对浮选效果的影响。 首先，对黄铜矿和黄铁矿的纯矿物进行浮选电化学性质研究，发现在碱性条件下，矿浆电位小于270mV时，黄铜矿的捕收剂诱导效果明显好于黄铁矿的捕收剂诱导效果，这为黄铜矿浮选过程中的铜硫分离，提高黄铜矿精矿品位提供了理论依据。 其次，对不同中矿不同处理方式下的磨矿后的矿浆电位进行了研究，发现：采用中矿再磨后粗选前矿浆电位高于原流程；不同再磨处理方式对再磨后矿浆电位影响大小排序为：分级再磨>脱药再磨>直接再磨；矿浆电位值的大小顺序为：分级再磨>直接再磨>脱药再磨。 再次，研究浮选中矿再磨工艺下，浮选矿浆电位的调控规律，流程试验表明：粗选前矿浆电位在100mV-500mV间，黄铜矿的浮选随着电位的升高，精矿品位降低，回收率升高；黄铜矿浮选的适合矿浆电位在200mV-300mV间，当矿浆电位为200mV-250mV时，有利于铜精矿品位的提高；当矿浆电位250mV-300mV时，有利于铜精矿回收率的提高。同一中矿处理方式时，粗选作业前电位控制在275mV的浮选闭路比电位控制在225mV的浮选闭路铜精矿回收率要高，品位要低；在未加电位调控药剂时，获得铜精矿回收率的指标大小排序为：分级再磨>直接再磨>脱药再磨，铜精矿品位的指标大小排序为：脱药再磨>直接再磨>分级再磨；在加入电位调控药剂将粗选前电位调控至同一范围时，获得铜精矿回收率的指标大小排序为：分级再磨>直接再磨>脱药再磨，铜精矿品位的指标排序为：脱药再磨>直接再磨>分级再磨。中矿再磨工艺能够提高单体解离度，其提高的单体解离度幅度大小排序为：分级再磨>脱药再磨>直接再磨。 最后，对中矿再磨的浮选机理进行相关研究，发现：（1）、中矿再磨有利于提高浮选矿浆中矿物表面的Zeta电位，有利于黄药氧化成双黄药。（2）、通过对再磨前后有机物含量的测定，发现再磨后矿物表面 CuX的含量为再磨前的70.39％，磨矿后双黄药含量是磨矿前的179.75%，说明再磨过程能够将矿物表面的黄原酸盐擦洗下来，并促进黄药向双黄药的氧化；（3）、通过黄药氧化还原反应动力学的研究，发现采用中矿再磨增加氧化剂浓度、反应温度和活性分子碰撞几率等因素能够加速黄药的氧化进程。 本文的创新点在于：（1）、较为系统的研究了浮选中矿再磨流程的矿浆电位变化规律，结果表明：中矿再磨处理使得浮选矿浆电位提高，有利于浮选进行。（2）、将浮选矿浆电位调控技术与中矿再磨工艺相结合，研究两者耦合作用对浮选指标的变化规律。（3）、采用LC-MS表征，对中矿再磨工艺的机理进行研究，表明：中矿再磨虽然能将矿物表面吸附的部分黄药脱落，但更能有利于双黄药的生成，有利于浮选进行。