【摘 要】
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该论文对在高真空中蒸镀形成的富勒烯/金属界面体系采用原位电输运性质测量的方法观测了体系的渗流转变、电阻弛豫、I-V曲线和电击穿等现象,试图从体系表现出现的宏观电性质
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该论文对在高真空中蒸镀形成的富勒烯/金属界面体系采用原位电输运性质测量的方法观测了体系的渗流转变、电阻弛豫、I-V曲线和电击穿等现象,试图从体系表现出现的宏观电性质对富勒烯和金属的界面作用及薄膜的微观形态有所了解.通过对金属银和铌的实验得到了半连续膜电阻弛豫的一个经验公式和典型的I-V曲线,发现击穿电流符合渗流指数率.对稀土金属饵和钐迭层膜实验结果的分析证实了在界面处金属向C<,60> 转移电子的现象,同时对半连续膜生长过程中的微观形态变化有了进一步的了解.通过对Ni(Cu)/C<,60>体系的实验,发现底层C<,60>的存在、半连续膜的形态和温度都是影响体系渗流转变点的重要因素.对体系的各种I-V曲线根据阻值进行了分类,并通过对Ni/C<,60>与Cu/C<,60>的不同击穿指数的对比,说明了C<,60>在体系电击穿现象中的作用, 而这种作用源于C<,60>与金属间的相互作用.
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