【摘 要】
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该论文回顾了化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜研究的历史与进展,并在此基础上着重介绍了作者用热丝CVD法研究硅与硬质合金衬底上纳米金刚石薄膜的形核与生长方面所做的工作.这些
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该论文回顾了化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜研究的历史与进展,并在此基础上着重介绍了作者用热丝CVD法研究硅与硬质合金衬底上纳米金刚石薄膜的形核与生长方面所做的工作.这些工作包括:1.以通常的CH<,4>/H<,2>气氛热丝CVD系统在硅衬底上制得纳米金刚石薄膜,采用扫描电子显微镜、显微Raman光谱、X射线光电子谱和电子衍射等多种手段对样品质量进行了鉴定;2.以CH<,4>/H<,2>/Ar气氛热丝CVD系统在硅和硬质合金衬底上成功制备了质量优良的纳米金刚石薄膜,采用扫描电子显微镜、显微Raman光谱、X射线衍射以及高分辨透射电镜等多种手段对样品质量进行了鉴定;3.在对纳米金刚石薄膜形貌观察的基础上,结合其他实验手段,初步解释了纳米金刚石的生长图像;4.通过系列比较实验、光谱结果以及简单模型,初步探讨了氩气在热丝CVD系统中的作用.
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