强流脉冲束流辐照轻合金表面形貌及性能研究

来源 :沈阳理工大学 | 被引量 : 1次 | 上传用户:bluelee530
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利用SRIM(the Stopping And Range Of Ions In Matter)模拟强流脉冲离子束(HIPIB)辐照AZ31镁合金、TA1工业纯钛及TC4钛合金后离子在靶材表面的沉积规律、能量分布及缺陷分布,为研究辐照后靶材表面的形貌及性能提供理论依据,工艺参数为:离子能量250keV,离子组成为70%C++30%H+。结果表明:C+在AZ31、TA1、TC4中的射程分别为0.712μm、0.3968μm和0.3994μm,H+的射程分别为3.24μm、1.57μm和1.58μm;入射离子作用在靶材亚表层,形成大量空位等结构缺陷,这对靶材表面凹坑的形成有着重要作用。利用ABAQUS模拟HIPIB辐照TC4时靶材表面温度变化规律。结果表明:HIPIB辐照后,靶材表面亚表层温度最高,亚表层高温液体烧蚀喷发,作用在相对温度较低的表层金属液,形成表面凹坑形貌。利用TIA-450HIPIB设备辐照铸态及轧制态AZ31镁合金、TA1工业纯铝和TC4钛合金,利用SOLO强流脉冲电子束(HCPEB)设备辐照1060工业纯铝和2A12铝合金。HIPIB辐照工艺参数为:离子加速电压250kV,束流密度170-200A/cm2,束流脉冲宽度80ns,离子组成为70%C++30%H+;HCPEB辐照工艺参数为:加速电压12kV,电流强度140A,脉冲频率1HZ。分别用金相显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和显微硬度仪等仪器设备检测观察靶材金相组织、表面形貌、物相构成及表面显微硬度。HIPIB结果表明:靶材表面在选择性烧蚀及亚表层喷发作用下形成凹坑,双相结构靶材在相界处发生烧蚀喷发;经过辐照后没有新相产生,在入射离子及冲击波作用下,靶材内部产生压应力;靶材表面发生细晶强化、弥散强化及位错塞积,导致靶材表面显微硬度增加。HCPEB辐照结果表明:1060与2A12表面在选择性烧蚀及烧蚀等离子体反冲动量作用下产生凹坑,2A12表面相界处发生严重烧蚀,形成网状烧蚀带形貌;靶材表面没有新相产生,靶材内部没有应力产生;在靶材表面发生细晶强化,导致靶材表面显微硬度增加。
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