多层膜材料技术作为第三代表面层技术，其表现出的各种特殊的性能，是整体材料和任何单一组分薄膜所不具备的。在过去的20年中，多层膜的研究成为物理学和材料科学领域相当热门的研究课题。对于多层膜的制备，目前主要有物理方法、化学方法和电化学方法，从制备工艺来看各有其局限性。本文基于喷射电沉积所具有的局部沉积特性，由单喷射单元过渡到空间阵列多喷射单元，在国内外率先提出一种“多元阵列喷射电沉积制备多层膜”的新工艺方法，这种方法有望解决现有纳米多层膜制备方法工艺过程复杂、设备昂贵等问题。本文所做的创新性工作和主要研究内容如下：（1）以原有喷射电沉积设备为基础，自主研制多元阵列喷射电沉积系统。为实现设备在制备多层膜过程中的精确控制和自动化，开发了“切换比控制器”自动控制系统。（2）利用构建的试验系统制备了一系列铜/镍多层膜，采用扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、显微硬度仪、球盘磨损以及电化学腐蚀等分析测量手段对多层膜的横截面形貌、微观组织结构和性能进行检测与分析。发现该新方法制备的铜/镍多层膜子层厚度均匀、界面明显，纳米多层膜的显微硬度和耐磨性明显高于纯铜与纯镍，当调制波长达到中间某个最优值时耐腐蚀性能最好。（3）分析研究电流密度、喷嘴尺寸、切换比等工艺参数对制备的铜/镍多层膜的调制波长和调制比的影响。（4）利用测试结果分析研究调制波长、铜子层厚度等工艺参数对所制得的铜/镍多层膜性能的影响。