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三水平U-型设计在对称化L2-偏差下的下界

来源 :应用数学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chairy01

【摘 要】

：

均匀试验设计是部分因子设计的主要方法之,已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性.不管使用哪种偏差,关键的问

【作 者】

：

雷轶菊  欧祖军 

【机 构】

：

新乡学院数学与信息科学学院; 吉首大学数学与统计学院;

【出 处】

：

应用数学学报

【发表日期】

：

2018年01期

【关键词】

：

三水平 U-型设计 对称化L2-偏差 下界 

【基金项目】

：

国家自然科学基金(11561025,11701213);湖南省自然科学基金(2017JJ2218,2017JJ3253)资助项目

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均匀试验设计是部分因子设计的主要方法之,已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性.不管使用哪种偏差,关键的问题是寻找一个精确的偏差下界,因为它可以作为衡量设计均匀性的标准.本文应用条件极值的方法得到了三水平U-设计在对称化L_2-偏差下的下界,该下界可作为寻找均匀设计的一个基准.

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