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完成了在芯片上以离子色谱对无机阳离子的分离，使用标准的光刻技术，在硅晶片上刻蚀分离微沟道，利用湿法和干法刻蚀芯片并阳极键合技术，并用Pyrex玻璃片封盖刻蚀的芯片。首次利用季铵乳胶颗粒涂渍芯片上的分离沟道。由于在芯片上的微沟道有0．5－10μm，分离样品和固定相之间的相互作用，在芯片的分离沟道上的作用几率要比在50μm的毛细管上高的多。在芯片外进样（20mL）和紫外检测，利用1mM KCl作洗脱剂分离了NO2^－，NO3^－，I^－和硫脲。对NO2^－，NO3^－的线性范围为5－1000μM，检测限为0．