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该文综述了利用外延技术在高失配度的基片上生长同质或者异质缓冲层能够提高AZO薄膜的质量。重点阐述不同工艺条件下制备缓冲层对AZO薄膜光电性能影响,介绍AZO薄膜发展近况,并指出目前AZO薄膜发展瓶颈,展望了其未来发展趋势。
缓冲层对AZO薄膜光电性能的影响
【摘 要】
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该文综述了利用外延技术在高失配度的基片上生长同质或者异质缓冲层能够提高AZO薄膜的质量。重点阐述不同工艺条件下制备缓冲层对AZO薄膜光电性能影响,介绍AZO薄膜发展近况,
【机 构】
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吉首大学物理与机电工程学院
【出 处】
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实验科学与技术
【发表日期】
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2016年3期
【基金项目】
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吉首大学2014年大学生研究性学习与创新性实验计划项目（72）,吉首大学校级科研项目（14JD031）.
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